引用本文:李世直.PCVD硬膜的现状与展望[J].中国表面工程,1989,(4):
.[J].China Surface Engineering,1989,(4):
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PCVD硬膜的现状与展望
李世直
作者单位
摘要:
一、引言等离子体化学气相沉积(PCVD)在集成电路元件,光导纤维,太阳能电池等领域中已得到广泛应用。近年来,用PCVD 或加热丝的化学气相沉积法,合成金刚石和金刚石膜取得了世人注目的进展。由于低压合成金刚石获得成功的启发,用类似方法制备立方BN 膜的研究也已
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