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<title><![CDATA[《中国表面工程》编辑部 -->最新录用文章]]></title>
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<title><![CDATA[激光熔覆NiCoCrTaAl-TiC复合涂层组织性能及摩擦学性能研究]]></title>
<link><![CDATA[http://old.csejournal.com/zgbmgc/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=202204200000001&flag=2]]></link>
<description><![CDATA[Ni基合金在高温条件下具有优异的性能,常作为高温严苛环境下的优选材料,被广泛应用于各大领域。为了提高合金在严苛环境下的服役年限,设计并采用激光熔覆技术成功在K418镍基合金表面制备了NiCoCrTaAl-TiC 复合涂层；重点研究了Al含量对复合涂层组织形貌及摩擦学性能的影响；模拟了雨水环境、海水浸泡、润滑油等实际工作环境,对涂层在不同环境下的耐腐蚀及耐磨性能进行了进一步研究。研究结果表明：复合涂层主要由TiC、Cr2Ni3、Al2O3、AlNi3相组成,同时存在金属间化合物Al4CrNi15、Al4Ni15Ta等物相；涂层内部组织致密,由中部的树枝晶及顶部的等轴晶组织组成；随着Al含量的增加,熔池边界逐渐消失,硬度、耐磨性呈先减小后增加的趋势；当Al含量为15 wt.%时复合涂层的性能最佳,硬度的增强机理为TiC、Al2O3及AlNi3共同强化；其耐磨性能相较于0 wt.%Al含量的涂层约提高了25%；在腐蚀介质中浸泡2 h后与未经腐蚀处理的涂层在边界润滑条件下磨痕深度及磨损量基本相同,表明Al元素的添加可以提高复合涂层的耐腐蚀性能。]]></description>
<pubDate>2023/11/8 15:38:26</pubDate>
<category><![CDATA[润滑与耐磨]]></category>
<author><![CDATA[姜胜强,刘金刚,刘思思,谢玉莹,杨世平,杨正航]]></author>
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<title><![CDATA[低压等离子喷涂CoNiCrAlY粉末颗粒沉积行为及涂层性能]]></title>
<link><![CDATA[http://old.csejournal.com/zgbmgc/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=202205190000001&flag=2]]></link>
<description><![CDATA[MCrAlY涂层具有优良的抗高温氧化和热腐蚀性能，也可用作高温封严涂层材料，广泛应用于涡轮发动机热端部件的防护。本研究采用低压等离子喷涂方法在镍基高温合金GH3536基体表面收集CoNiCrAlY单个扁平颗粒沉积物及厚度数百微米的涂层，并对单个及堆叠扁平颗粒沉积物的形貌以及涂层的微观结构和性能进行了表征。研究结果表明，喷涂腔室内保护气氛压强降低时，熔融的CoNiCrAlY粉末颗粒在基体表面快速铺展并凝固沉积为扁平化盘状物，而熔融粉末颗粒在已沉积涂层表面铺展得更为充分。大量的扁平颗粒沉积物以机械咬合的方式相互结合并逐层堆垛形成致密涂层。涂层的孔隙率可控制在1%以内，氧含量低至0.32%，结合强度75MPa以上，1050℃时达到完全抗氧化级别。真空热处理可提高涂层的组织均匀性以及涂层的内聚强度，并在涂层与基体界面处形成厚度数十微米的互扩散层，进一步改善涂层与基体的结合强度。低压等离子喷涂CoNiCrAlY厚涂层的组织均匀致密、综合性能优良，与单个熔融粉末颗粒在基体及已沉积涂层表面的沉积堆垛行为密切相关。]]></description>
<pubDate>2023/11/8 15:38:26</pubDate>
<category><![CDATA[工程应用]]></category>
<author><![CDATA[戴红亮,邓子谦,牛少鹏,徐丽萍,杨焜,曾威]]></author>
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<title><![CDATA[类金刚石薄膜的残余应力调控研究进展[*]]]></title>
<link><![CDATA[http://old.csejournal.com/zgbmgc/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=202206290000002&flag=2]]></link>
<description><![CDATA[类金刚石薄膜(Diamond-like carbon，DLC)由于其优异的性能而在诸多领域显示广阔应用前景。然而，DLC薄膜中存在的高残余应力，破坏了膜基结合力，导致薄膜开裂或剥落，严重限制了其使用寿命和可靠性，成为DLC薄膜研究领域中亟需解决的关键问题之一，也是基于实际应用的迫切需要。因此，本文介绍了DLC薄膜应力产生的来源，并结合国内外研究现状从元素掺杂、过渡层添加、工艺参数调节三个方面分别综述了应力调控方面的实验和理论研究进展，重点归纳不同调控方法降低薄膜残余应力的内在机理，为高质量DLC薄膜的设计和制备提供理论依据。]]></description>
<pubDate>2023/11/8 15:38:26</pubDate>
<category><![CDATA[综述论文]]></category>
<author><![CDATA[杜乃洲,冯存傲,付志民,郭鹏,李晓伟]]></author>
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<title><![CDATA[材料去除过程中Rehbinder效应的研究现状及其发展趋势<sub><sup>*</sup></sub>]]></title>
<link><![CDATA[http://old.csejournal.com/zgbmgc/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=202202270000001&flag=2]]></link>
<description><![CDATA[机械加工过程,特别是精密机械加工过程中的材料变形和去除,往往涉及到很多表面效应。表面效应对材料变形、材料去除及表面完整性形成机理有显著的影响。Rehbinder效应就是众多表面效应中的一种,其典型表现形式是极性分子吸附在工件表面,降低工件的表面强度,从而减小加工过程中的作用力,提升工件的表面质量。加工介质中的添加剂往往含有诱发Rehbinder效应的极性分子,而加工介质在已加工表面上的残留会使得Rehbinder效应在整个零件服役周期内都会发挥作用。文中回顾了Rehbinder效应概念的提出过程,列举了Rehbinder效应在机械加工过程中的宏观表现和微观作用机理,揭示了Rehbinder效应产生的扩散、位错和间隙机制,对比了离散元法、有限元法和分子动力学等数值仿真方法对Rehbinder效应机理的探讨,分析了Rehbinder效应对机械加工过程的有利和不利影响,最后讨论了Rehbinder效应进一步的应用和研究方向。]]></description>
<pubDate>2023/11/8 15:31:42</pubDate>
<category><![CDATA[技术基础]]></category>
<author><![CDATA[姜峰,邱天,税妍,谢鸿,言兰,张涛]]></author>
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<title><![CDATA[高功率脉冲磁控溅射在硬质涂层制备中的应用研究<sub><sup>*</sup></sub>]]></title>
<link><![CDATA[http://old.csejournal.com/zgbmgc/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=202201170000001&flag=2]]></link>
<description><![CDATA[高功率脉冲磁控溅射作为目前研究热门的物理气相沉积方法之一，已经在刀具材料、不锈钢、聚合物、复合材料等基体上实现硬质涂层、生物涂层、耐腐蚀涂层、耐高温氧化涂层、绝缘涂层等多种类型涂层制备，涂层种类包括金属、氮化物、碳化物、氧化物、类金刚石、高熵合金涂层、含Si涂层及各种组合。通过高功率脉冲磁控溅射与直流磁控溅射、脉冲磁控溅射、射频磁控溅射、中频磁控溅射、电弧离子镀及后续热处理等工艺方法复合，调节高功率脉冲磁控溅射的脉冲频率、峰值功率、占空比、多脉冲和双极性，结合氮气流量、偏压、沉积温度、调制周期、元素掺杂及等工艺参数，再利用人工神经网络和数值仿真对工艺过程进行优化和建模计算，实现对靶材离化率、等离子体空间分布、涂层沉积速率、相结构、微观结构、元素成分、内应力等等离子体参数和涂层物相结构的调整，以提高基体材料的硬度、耐磨损、耐腐蚀、耐高温氧化及生物相容性等综合使役性能。本文结合目前硬质涂层材料的应用现状，探讨了高功率脉冲溅射技术沉积涂层的特性和技术优势，介绍了20多年来高功率脉冲磁控溅射技术在制备单元单层、多元多层、纳米多层与多元复合、高熵合金及含Si、O、C等氮化物硬质涂层工艺及性能等方面应用的研究进展。]]></description>
<pubDate>2023/11/8 15:31:07</pubDate>
<category><![CDATA[高离化磁控溅射技术与应用专辑]]></category>
<author><![CDATA[顾艳阳,胡长建,蒋志强,魏永强]]></author>
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<title><![CDATA[Si3N4工程陶瓷基底涂层生长规律及性能研究]]></title>
<link><![CDATA[http://old.csejournal.com/zgbmgc/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=202205180000001&flag=2]]></link>
<description><![CDATA[利用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在氮化硅基底上沉积金刚石涂层,采用单因素影响实验,分别探究碳源浓度、腔室压力、基底温度对金刚石成膜过程的影响机制,探究微米和纳米金刚石涂层的最优生长工艺参数。利用Raman、XRD、SEM和AFM对不同参数制备出的金刚石的形核、表面形貌、薄膜质量、粗糙度等进行表征；利用洛氏硬度计分析膜基结合力。结果表明：腔室压力越大,活性物质到达基底的动能越小,不利于金刚石的成核和生长；生长速率和表面粗糙度主要受甲烷浓度的影响：甲烷浓度从1%到7%,生长速率从0.84 μm/h上升到1.32 μm/h；表面粗糙度Ra从53.4 nm降低到23.5 nm；甲烷浓度过高导致涂层脱落严重,膜基结合力变差；晶面形貌和金刚石含量受到基底温度的影响较为明显,随着温度升高,金刚石质量提高。]]></description>
<pubDate>2023/11/8 15:30:17</pubDate>
<category><![CDATA[表面改性与强化]]></category>
<author><![CDATA[白旭,刘鲁生,王贺,吴玉厚,闫广宇,杨淯淼,张慧森]]></author>
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<title><![CDATA[测试]]></title>
<link><![CDATA[http://old.csejournal.com/zgbmgc/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=202202220000002&flag=2]]></link>
<description><![CDATA[(6)基于图书的 VR/AR 资源]]></description>
<pubDate>2022/3/31 10:26:40</pubDate>
<category><![CDATA[等离子弧增材制造]]></category>
<author><![CDATA[张]]></author>
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